精沖模具拋光前型腔粗糙度為Ra0.5-0.6μm，拋光單邊去除量不得超過0.001-0.0015mm，要求拋光至Ra0.2μm或以下（鏡面效果）。模具型腔呈齒輪結(jié)構(gòu)，或不規(guī)則形狀。

拋光工藝：磨粒流

使用高分子彈性軟磨料，通過擠壓運動，使彈性軟磨料通過精沖模具型腔或待拋光面，精細(xì)研磨，達(dá)到鏡面效果。

具體拋光過程可參考下圖，因?qū)嶋H加工中，模具是被保護在工裝內(nèi)看不到磨料運動，所以用下圖作為參考。

拋光效率及效果：

節(jié)拍：每件1分鐘左右即可拋光完成（因模具底胚粗糙度較好，且要求去除量較低，所以不需要更長時間。如果底胚粗糙度比較差，可以再多拋1分多鐘）。

關(guān)于精度保持：

1、通常待拋光面原始粗糙度越好，拋光至鏡面后，去除量越?。?/span>

2、根據(jù)工件的材質(zhì)、粗糙度等特性，選擇適宜顆粒度的磨料；

3、通過調(diào)節(jié)拋光時間、壓力、流速等參數(shù)，可控制拋光效果

當(dāng)然，磨粒流工藝拋光精沖模具，不僅能拋光型腔模具，還可以拋光一些外表面。

使用磨粒流工藝對精沖模具型腔拋光，具有以下優(yōu)點：

1、更均勻：磨粒流拋光工藝，采用軟性磨料作為研磨介質(zhì)，拋光效果均勻。而傳統(tǒng)拋光方式，極有可能造成拋光不均的現(xiàn)象。

2、更精密：磨粒流拋光，可最大限度地保持工件原始公差，拋光后去除量不過1μ左右。

3、安全環(huán)保：斯曼克磨粒流工藝采用環(huán)保磨料進行物理研磨，磨料符合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)，不產(chǎn)生危險性氣體、粉塵、化學(xué)溶液等，環(huán)保安全。